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文献
J-GLOBAL ID：200902204314663639
整理番号：06A0140333
パルスストレス下におけるトンネル酸化物劣化
Tunnel oxide degradation under pulsed stress
GHIDINI G.
(STMicroelectronics, Agrate Brianza, ITA)
,
CAPOLUPO C.
(STMicroelectronics, Agrate Brianza, ITA)
,
GIUSTO G.
(STMicroelectronics, Agrate Brianza, ITA)
,
SEBASTIANI A.
(STMicroelectronics, Agrate Brianza, ITA)
,
STRAGLIATI B.
(STMicroelectronics, Agrate Brianza, ITA)
,
VITALI M.
(STMicroelectronics, Agrate Brianza, ITA)
資料名：
Microelectronics Reliability
(Microelectronics Reliability)
巻： 45 号： 9-11 ページ： 1337-1342 発行年： 2005年09月
JST資料番号： C0530A ISSN： 0026-2714 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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