文献
J-GLOBAL ID:200902205495338650
整理番号:05A0661533
堆積金属酸化法によるHfO2/Si構造の作成とその高分解能RBS評価
Fabrication of HfO2/Si structure and its characterization using HR-RBS
著者 (4件):
上野智雄
(東京農工大 工)
,
長里喜隆
(東京農工大 工)
,
小林晃子
(東京農工大 工)
,
入野真
(東京農工大 工)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
105
号:
108(SDM2005 58-69)
ページ:
67-72
発行年:
2005年06月02日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)