文献
J-GLOBAL ID:200902206242898612
整理番号:08A0711114
ステップアンドフラッシュインプリントリソグラフィーによる22nmノードパターニングのための線幅粗さの最小化
Minimizing Linewidth Roughness for 22-nm node Patterning with Step-and-Flash Imprint Lithography
著者 (6件):
SCHMID Gerard M.
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
KHUSNATDINOV Niyaz
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
BROOKS Cynthia B.
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
LABRAKE Dwayne
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
THOMPSON Ecron
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
,
RESNICK Douglas J.
(Molecular Imprints, Inc., TX, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6921
号:
Pt.1
ページ:
692109.1-692109.11
発行年:
2008年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)