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文献
J-GLOBAL ID：200902206871941598
整理番号：07A0731300
二重パターン化のリソオンリー手法
A litho-only approach to double patterning
VANLEENHOVE A.
(NXP Semiconductors, Leuven, BEL)
,
VAN STEENWINCKEL D.
(NXP Semiconductors, Leuven, BEL)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6520 号： Pt.2 ページ： 65202F.1-65202F.10 発行年： 2007年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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