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文献
J-GLOBAL ID：200902206926800689
整理番号：06A0611307
SiO2とSiO2-x薄膜のVUV反射分光法
VUV Reflection Spectroscopy of SiO2 and SiO2-x Thin Films
NAKAGAWA K.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
TSUDA T.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
IWAI T.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
SHIRAISHI Y.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
IWAI Y.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
CHANG SL.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
MIZUNUMA T.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
MATSUMOTO S.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
,
MATSUMOTO H.
(Meiji Univ., Kawasaki, JPN)
資料名：
UVSOR Activity Report
(UVSOR Activity Report)
巻： 2005 ページ： 86 発行年： 2006年07月
JST資料番号： L2127A ISSN： 0911-5730 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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