文献
J-GLOBAL ID:200902207255757550
整理番号:05A0868799
室温での酸化けい素上の吸着水層構造の進展
Evolution of the Adsorbed Water Layer Structure on Silicon Oxide at Room Temperature
著者 (2件):
ASAY David B.
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
,
KIM Seong H.
(Pennsylvania State Univ., Pennsylvania)
資料名:
Journal of Physical Chemistry B
(Journal of Physical Chemistry B)
巻:
109
号:
35
ページ:
16760-16763
発行年:
2005年09月08日
JST資料番号:
W0921A
ISSN:
1520-6106
CODEN:
JPCBFK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)