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文献
J-GLOBAL ID:200902208594701900   整理番号:09A0844961

低接触抵抗ポリSiダイオード駆動の4F2クロスポイント型相変化メモリ

Cross-point phase change memory with 4F2 cell size driven by low-contact-resistivity poly-Si diode
著者 (12件):
笹子佳孝
(日立 中研)
木下勝治
(日立 中研)
森川貴博
(日立 中研)
黒土健三
(日立 中研)
半澤悟
(日立 中研)
峰利之
(日立 中研)
島明生
(日立 中研)
藤崎芳久
(日立 中研)
久米均
(日立 中研)
守谷浩志
(日立 機械研)
高浦則克
(日立 中研)
鳥居和功
(日立 中研)

資料名:
電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))

巻: 109  号: 133(SDM2009 97-116)  ページ: 79-83  発行年: 2009年07月09日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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