文献
J-GLOBAL ID:200902208787771175
整理番号:04A0049877
HMDS蒸気とO2プラズマによって処理したSiO2表面のAFMチップでの特性化
Characterization of SiO2 Surface Treated by HMDS Vapor and O2 Plasma with AFM Tip.
著者 (2件):
KAWAI A
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
KAWAKAMI J
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
16
号:
5
ページ:
665-668
発行年:
2003年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)