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文献
J-GLOBAL ID：200902208927626022
整理番号：06A0135102
トライボナノリソグラフィーを用いたKOH水溶液におけるナノスケール作製
Nanoscale fabrication in aqueous KOH solution using tribo-nanolithography
KAWASEGI Noritaka
(Graduate School of Sci. and Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
PARK Jeong Woo
(Engineering Res. Center, Pusan National Univ., 30 Jangjeon-dong, Geumjeong-gu, Busan 609-735, KOR)
,
MORITA Noboru
(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
YAMADA Shigeru
(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
TAKANO Noboru
(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
OYAMA Tatsuo
(Dep. of Mechanical and Intellectual Systems Engineering, Toyama Univ., 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
ASHIDA Kiwamu
(Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., 1-2-1 Namiki, Tsukuba ...)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 23 号： 6 ページ： 2471-2475 発行年： 2005年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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