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文献
J-GLOBAL ID：200902209325308077
整理番号：06A0156916
異なった表面組成のInNのプラズマ支援分子ビームエピタクシーにおけるその場分光偏光解析法
In situ spectroscopic ellipsometry in plasma-assisted molecular beam epitaxy of InN under different surface stoichiometries
YOSHITANI Masayoshi
(Dep. of Electronics and Mechanical Engineering, Center for Frontier Electronics and Photonics, and InN-Project as a ...)
,
AKASAKA Koichiro
(Dep. of Electronics and Mechanical Engineering, Center for Frontier Electronics and Photonics, and InN-Project as a ...)
,
WANG Xinqiang
(Dep. of Electronics and Mechanical Engineering, Center for Frontier Electronics and Photonics, and InN-Project as a ...)
,
CHE Song-bek
(Dep. of Electronics and Mechanical Engineering, Center for Frontier Electronics and Photonics, and InN-Project as a ...)
,
ISHITANI Yoshihiro
(Dep. of Electronics and Mechanical Engineering, Center for Frontier Electronics and Photonics, and InN-Project as a ...)
,
YOSHIKAWA Akihiko
(Dep. of Electronics and Mechanical Engineering, Center for Frontier Electronics and Photonics, and InN-Project as a ...)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 99 号： 4 ページ： 044913-044913-6 発行年： 2006年02月15日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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