文献
J-GLOBAL ID:200902209344429756
整理番号:03A0393009
プラズマエッチング処理の量子化学的分子動力学シミュレーション
Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulation of the Plasma Etching Processes
著者 (9件):
SASATA K
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
YOKOSUKA T
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KUROKAWA H
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
TAKAMI S
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
KUBO M
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
IMAMURA A
(Hiroshima Kokusai Gakuin Univ., Hiroshima, JPN)
,
SHINMURA T
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
KANOH M
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
MIYAMOTO A
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
42
号:
4B
ページ:
1859-1864
発行年:
2003年04月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)