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J-GLOBAL ID：200902209409486175 整理番号：03A0509011

化学増幅レジスト用の脱保護反応

Study of De-protection Reactions for Chemically Amplified Resists

著者 (3件)：

SEKIGUCHI A

(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)

KONO Y

(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)

SENSU Y

(Litho Tech Japan Corp., Saitama, JPN)

資料名：

Journal of Photopolymer Science and Technology (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻： 16 号： 2 ページ： 209-216 発行年： 2003年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：英語 (EN)

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