文献
J-GLOBAL ID:200902209974477996
整理番号:05A0605980
真空ロードロックシステムおよびプラズマドライクリーニングによる接触抵抗の低下
Contact Resistance Reduction Using Vacuum Loadlock System and Plasma Dry Cleaning
著者 (4件):
MIYA Hironobu
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
SHINGUBARA Shoso
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
SAKAUE Hiroyuki
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
,
TAKAHAGI Takayuki
(Hiroshima Univ., Higashi-Hiroshima, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
44
号:
6A
ページ:
3860-3863
発行年:
2005年06月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)