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文献
J-GLOBAL ID:200902210010751388   整理番号:05A0410952

Bi2Sr2CaCu2Ox積層の製作に対する自己平面化過程

Self-planarizing process for the fabrication of Bi2Sr2CaCu2Ox stacks
著者 (5件):
ISHIDA H.
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
OKANOUE K.
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
HAMASAKI K.
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
SHIMAKAGE H.
(National Inst. Information and Communications Technol., Kobe, JPN)
WANG Z.
(National Inst. Information and Communications Technol., Kobe, JPN)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 86  号: 12  ページ: 122503.1-122503.3  発行年: 2005年03月21日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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