文献
J-GLOBAL ID:200902210010751388
整理番号:05A0410952
Bi2Sr2CaCu2Ox積層の製作に対する自己平面化過程
Self-planarizing process for the fabrication of Bi2Sr2CaCu2Ox stacks
著者 (5件):
ISHIDA H.
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
OKANOUE K.
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
HAMASAKI K.
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
,
SHIMAKAGE H.
(National Inst. Information and Communications Technol., Kobe, JPN)
,
WANG Z.
(National Inst. Information and Communications Technol., Kobe, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
86
号:
12
ページ:
122503.1-122503.3
発行年:
2005年03月21日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)