文献
J-GLOBAL ID:200902210063053801
整理番号:08A1178102
fcc下地層がエピタキシャルNi(111)薄膜の形成に及ぼす効果
Effects of fcc Underlayer on the Formation of Ni(111) Epitaxial Thin Films
著者 (4件):
西山努
(中央大 理工)
,
大竹充
(中央大 理工)
,
桐野文良
(東京芸術大 大学院美術研究科)
,
二本正昭
(中央大 理工)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
108
号:
234(MR2008 19-29)
ページ:
13-18
発行年:
2008年10月02日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)