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文献
J-GLOBAL ID：200902210331853107
整理番号：06A0355152
室温におけるハイパーサーマルO原子ビームによるSi(001)の酸化
Oxidation of Si(001) with a hyperthermal O-atom beam at room temperature: Suboxide distribution and residual order structure
TAGAWA Masahito
(Dep. of Mechanical Engineering, Fac. of Engineering, Kobe Univ., Rokko-dai 1-1, Nada, Kobe, Hyogo 657-8501, JPN)
,
SOGO Chie
(Dep. of Mechanical Engineering, Fac. of Engineering, Kobe Univ., Rokko-dai 1-1, Nada, Kobe, Hyogo 657-8501, JPN)
,
YOKOTA Kumiko
(Dep. of Mechanical Engineering, Fac. of Engineering, Kobe Univ., Rokko-dai 1-1, Nada, Kobe, Hyogo 657-8501, JPN)
,
YOSHIGOE Akitaka
(Japan Atomic Energy Agency, Kouto 1-1-1, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo 679-5148, JPN)
,
TERAOKA Yuden
(Japan Atomic Energy Agency, Kouto 1-1-1, Sayo-cho, Sayo-gun, Hyogo 679-5148, JPN)
,
SHIMURA Takayoshi
(Graduate School of Engineering, Osaka Univ., Yamada-oka 2-1, Suita, Osaka 565-0871, JPN)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 88 号： 13 ページ： 133512-133512-3 発行年： 2006年03月27日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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