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文献
J-GLOBAL ID：200902210461919614
整理番号：04A0863891
シリコン中の酸素原子16Oの外方拡散と内方拡散
Out- and in-diffusion of oxygen 16O in silicon
BARCZ A
(Inst. Electronics Technol., Warsaw, POL)
,
PANAS A
(Inst. Electronics Technol., Warsaw, POL)
,
JAKIELA R
(Inst. Physics, Polish Acad. Sci., Warsaw, POL)
資料名：
Semiconductor Science and Technology
(Semiconductor Science and Technology)
巻： 19 号： 11 ページ： 1311-1314 発行年： 2004年11月
JST資料番号： E0503B ISSN： 0268-1242 CODEN： SSTEET 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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