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文献
J-GLOBAL ID：200902211177164596
整理番号：08A1145477
電子後方散乱回折と共焦点Raman顕微鏡を用いた歪と応力のナノスケール測定比較
Comparison of nanoscale measurements of strain and stress using electron back scattered diffraction and confocal Raman microscopy
VAUDIN Mark D.
(Ceramics Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, Maryland 20899, USA)
,
GERBIG Yvonne B.
(Ceramics Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, Maryland 20899, USA)
,
STRANICK Stephan J.
(Surface and Microanalysis Sci. Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, Maryland 20899, USA)
,
COOK Robert F.
(Ceramics Div., National Inst. of Standards and Technol., Gaithersburg, Maryland 20899, USA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 93 号： 19 ページ： 193116 発行年： 2008年11月10日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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