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文献
J-GLOBAL ID：200902211194417392
整理番号：07A0999028
化学機械的平坦化(CMP)のための両面研磨機におけるディスク運動の動的解析
A kinematic analysis of disk motion in a double sided polisher for chemical mechanical planarization (CMP)
KASAI Toshi
(Cabot Microelectronics Corp., 870 North Commons Drive, Aurora, IL 60504, USA)
資料名：
Tribology International
(Tribology International)
巻： 41 号： 2 ページ： 111-118 発行年： 2008年02月
JST資料番号： E0409B ISSN： 0301-679X 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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