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文献
J-GLOBAL ID：200902211607596274
整理番号：09A1035370
高周波スパッタリングによりPtおよびSrRuO3/Pt電極上に形成した非ドープ,および,MnをドープしたBiFeO3膜の特性
Characteristics of Undoped and Mn-Doped BiFeO3 Films Formed on Pt and SrRuO3/Pt Electrodes by Radio-Frequency Sputtering
KIM Jeong Hwan
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
SUGIYAMA Yoshihiro
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
SUGIYAMA Yoshihiro
(Fujitsu Lab. Ltd., Kanagawa, JPN)
,
ISHIWARA Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48 号： 9,Issue 2 ページ： 09KB02.1-09KB02.4 発行年： 2009年09月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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