文献
J-GLOBAL ID:200902211849882506
整理番号:05A0568927
EUVリソグラフィー用のSn系光源のデブリ緩和と洗浄の方法
Debris mitigation and cleaning strategies for Sn-based sources for EUV lithography
著者 (4件):
KLUNDER D. J. W.
(Philips Res., Eindhoven, NLD)
,
VAN HERPEN M. M. J. W.
(Philips Res., Eindhoven, NLD)
,
BANINE V. Y.
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
GIELISSEN K.
(Technical Univ. Eindhoven, Eindhoven, NLD)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
5751
号:
Pt.2
ページ:
943-951
発行年:
2005年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)