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文献
J-GLOBAL ID：200902211939764111
整理番号：03A0542481
パルスレーザアブレーションによって生成した粒径選択ナノ粒子堆積によるシリコンナノ構造薄膜の作製
Fabrication of silicon nanostructured films by deposition of size-selected nanoparticles generated by pulsed laser ablation
SETO T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
ORII T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
HIRASAWA M
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
AYA N
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 437 号： 1/2 ページ： 230-234 発行年： 2003年08月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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