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文献
J-GLOBAL ID：200902212372838794
整理番号：07A0117505
非断熱性近接場フォトリソグラフィーを用いたナノ作製
Nanofabrication using Nonadiabatic Near-Field Photolithography
YONEMITSU Hiroki
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KAWAZOE Tadashi
(Japan Sci. and Technol. Agency, Tokyo, JPN)
,
OHTSU Motoichi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
OHTSU Motoichi
(Japan Sci. and Technol. Agency, Tokyo, JPN)
資料名：
2005 5th IEEE Conference on Nanotechnology, Vol.2
(2005 5th IEEE Conference on Nanotechnology, Vol.2)
ページ： 456-459 発行年： 2005年
JST資料番号： K20050120 ISBN： 0-7803-9199-3 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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