文献
J-GLOBAL ID:200902212415638280
整理番号:04A0794089
パルスレーザ堆積法によるBi(FexAl1-x)O3薄膜の合成とその構造キャラクタリゼーション
Synthesis of Bi(FexAl1-x)O3 Thin Films by Pulsed Laser Deposition and Its Structural Characterization
著者 (4件):
OKADA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
YOSHIMURA T
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
ASHIDA A
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
FUJIMURA N
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
43
号:
9B
ページ:
6609-6612
発行年:
2004年09月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)