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文献
J-GLOBAL ID：200902212417523463
整理番号：03A0425562
粉末ターゲットを用いたスパッタリング法で生成したGaN膜の残留応力評価
日下一也
(徳島大 工)
,
英崇夫
(徳島大 工)
,
富永喜久雄
(徳島大 工)
資料名：
日本材料学会学術講演会講演論文集
(Proceedings of the JSMS Annual Meetings)
巻： 52nd ページ： 63-64 発行年： 2003年05月16日
JST資料番号： Y0052A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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