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文献
J-GLOBAL ID:200902212501013136   整理番号:04A0083905

水素化炭素膜のナノ硬度及びYoung率に対する膜部分の窒素含有量と膜厚の影響

Effect of nitrogen content at coating film and film thickness on nanohardness and Young’s modulus of hydrogenated carbon films
著者 (4件):
LIN J F
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
WEI P J
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
PAN J C
(National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN)
AI C-F
(Inst. Nuclear Energy Res., Lung Tan, TWN)

資料名:
Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)

巻: 13  号:ページ: 42-53  発行年: 2004年01月 
JST資料番号: W0498A  ISSN: 0925-9635  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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