文献
J-GLOBAL ID:200902212815871692
整理番号:04A0113783
化合物ターゲットからスパッタした窒化ハフニウム膜の成長及び応力変化
Growth and stress evolution of hafnium nitride films sputtered from a compound target
著者 (4件):
LIAO M Y
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
GOTOH Y
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TSUJI H
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
ISHIKAWA J
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
22
号:
1
ページ:
214-220
発行年:
2004年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)