文献
J-GLOBAL ID:200902213036566189
整理番号:04A0147604
組成が傾斜したTiAlSiN薄膜の微構造を通常並びに高分解能TEMで研究
Conventional and high resolution TEM investigation of the microstructure of compositionally graded TiAlSiN thin films
著者 (4件):
PARLINSKA-WOJTAN M
(Swiss Federal Inst. of Technol. Lausanne (EPFL), Lausanne, CHE)
,
KARIMI A
(Swiss Federal Inst. of Technol. Lausanne (EPFL), Lausanne, CHE)
,
CSELLE T
(PLATIT AG, Grenchen, CHE)
,
MORSTEIN M
(PLATIT AG, Grenchen, CHE)
資料名:
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻:
177/178
ページ:
376-381
発行年:
2004年01月30日
JST資料番号:
D0205C
ISSN:
0257-8972
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)