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文献
J-GLOBAL ID：200902213270712920
整理番号：07A0498780
ダメージフリー低温エアロゾルクリーンプロセス
Damage-free cryogenic aerosol clean processes
LIN Hong
(IBM Systems and Technology Group, NY, USA)
,
CHIOUJONES Kelly
(IBM Systems and Technology Group, NY, USA)
,
LAUERHAAS Jeff
(FSI International, MN, USA)
,
FREEBERN Tim
(IBM Systems and Technology Group, NY, USA)
,
YU Chienfan
(IBM Systems and Technology Group, NY, USA)
資料名：
IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing
(IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing)
巻： 20 号： 2 ページ： 101-106 発行年： 2007年05月
JST資料番号： T0521A ISSN： 0894-6507 CODEN： ITSMED 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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