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文献
J-GLOBAL ID：200902213301551385
整理番号：03A0875523
希ガス希釈下の低温における表面波プラズマ酸化
Surface Wave Plasma Oxidation at Low Temperature under Rare Gas Dilution
GOTO M
(Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
AZUMA K
(Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
OKAMOTO T
(Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN)
,
NAKATA Y
(Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42 号： 11 ページ： 7033-7038 発行年： 2003年11月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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