文献
J-GLOBAL ID:200902213525650133
整理番号:08A1018980
バルクSi CMOS技術スケーリング方式としての順方向基板バイアス
Forward Body Biasing as a Bulk-Si CMOS Technology Scaling Strategy
著者 (7件):
HOKAZONO Akira
(Univ. California at Berkeley, CA, USA)
,
HOKAZONO Akira
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
BALASUBRAMANIAN Sriram
(Univ. California at Berkeley, CA, USA)
,
ISHIMARU Kazunari
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
ISHIUCHI Hidemi
(Toshiba Corp., Yokohama, JPN)
,
HU Chenming
(Univ. California at Berkeley, CA, USA)
,
LIU Tsu-Jae King
(Univ. California at Berkeley, CA, USA)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
55
号:
10
ページ:
2657-2664
発行年:
2008年10月
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)