文献
J-GLOBAL ID:200902213764900486
整理番号:04A0703743
絶縁性ハフニウム及びジルコニウム窒化物の原子層集積
Atomic Layer Deposition of Insulating Hafnium and Zirconium Nitrides
著者 (3件):
BECKER J S
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
KIM E
(Harvard Univ., Massachusetts)
,
GORDON R G
(Harvard Univ., Massachusetts)
資料名:
Chemistry of Materials
(Chemistry of Materials)
巻:
16
号:
18
ページ:
3497-3501
発行年:
2004年09月07日
JST資料番号:
T0893A
ISSN:
0897-4756
CODEN:
CMATEX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)