文献
J-GLOBAL ID:200902214318350568
整理番号:06A0097887
オプトエレクトロニックデバイス作製のための集束イオンビームナノパターニング
Focused Ion Beam Nanopatterning for Optoelectronic Device Fabrication.
著者 (4件):
KIM Yong Kwan
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
,
DANNER Aaron J
(Agilent Technol., SGP)
,
RAFTERY James J
(United States Military Acad., NY, USA)
,
CHOQUETTE Kent D
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
資料名:
IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics
(IEEE Journal of Selected Topics in Quantum Electronics)
巻:
11
号:
6
ページ:
1292-1298
発行年:
2005年11月
JST資料番号:
W0734A
ISSN:
1077-260X
CODEN:
IJSQEN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)