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文献
J-GLOBAL ID：200902214656071836
整理番号：03A0636171
疎水性シリカゲルを用いる銅イオンの溶媒抽出挙動
Solvent Extraction Behavior of Copper Ions Using Hydrophobic Silica Gel
SHIMIZU T
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
KOKUSEN H
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
KOMATSU Y
(Kanazawa Inst. Technol., Ishikawa, JPN)
,
TSURUBOU S
(Asahi Univ., Gifu, JPN)
,
SEKITA M
(National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN)
資料名：
日本イオン交換学会誌
(Journal of Ion Exchange)
巻： 14 号： Supplement ページ： 369-372 発行年： 2003年07月14日
JST資料番号： L2416A ISSN： 0915-860X CODEN： NKOGEZ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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