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文献
J-GLOBAL ID：200902214791564311
整理番号：05A0586453
包接化合物を用いるジアゾ/PVAとジアゾ/PVAcレジストの光と熱分解の制御
Control of Photo and Thermal Decomposition of Diazo/PVA and Diazo/PVAc Resist with Inclusion Compounds
HARADA Kieko
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
KUSHIDA Masahito
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
MIYAKAWA Shinichi
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
TAKAHARA Shigeru
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
SUGITA Kazuyuki
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 18 号： 2 ページ： 187-192 発行年： 2005年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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