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文献
J-GLOBAL ID：200902215003053146
整理番号：08A0710532
リソグラフィーのMix and Matchオーバレイを最適化するためのシステム
A System to Optimize Mix and Match Overlay in Lithography
WAKAMOTO Shinji
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
ISHII Yuuki
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
YASUKAWA Koji
(Nikon Corp., Saitama, JPN)
,
MAEJIMA Shinroku
(Renesas Technol. Corp., Hyogo, JPN)
,
KATO Atsuhiko
(KLA-Tencor Japan Ltd. (Japan), Kanagawa, JPN)
,
ROBINSON John C.
(KLA-Tencor Corp., CA, USA)
,
CHOI Dong-Sub
(KLA-Tencor Korea Co., Ltd, Kunggi Prov, KOR)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6922 号： Pt.2 ページ： 69222V.1-69222V.11 発行年： 2008年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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