文献
J-GLOBAL ID:200902215250244132
整理番号:05A0568903
高開口数小視野EUV露光ツール(HiNA)を用いたEUVLのパターン忠実度の評価
Evaluation of pattern fidelity in EUVL using a high-numerical-aperture small-field EUV exposure tool (HiNA)
著者 (8件):
TANAKA Yuusuke
(Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET), Atsugi, JPN)
,
OIZUMI Hiroaki
(Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET), Atsugi, JPN)
,
HASHIMOTO Takeo
(Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET), Atsugi, JPN)
,
KUMASAKA Fumiaki
(Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET), Atsugi, JPN)
,
NISHIYAMA Iwao
(Assoc. Super-Advanced Electronics Technol. (ASET), Atsugi, JPN)
,
ABE Tsukasa
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Kamifukuoka, JPN)
,
MOHRI Hiroshi
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Kamifukuoka, JPN)
,
HAYASHI Naoya
(Dai Nippon Printing Co., Ltd., Kamifukuoka, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
5751
号:
Pt.2
ページ:
733-740
発行年:
2005年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)