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文献
J-GLOBAL ID：200902215892637618
整理番号：06A0098371
ポジ及びネガ調のポリメタクリル酸メチルパターン作製用の172nm真空紫外光を採用した簡単なリソグラフィー法
A simple lithographic method employing 172 nm vacuum ultraviolet light to prepare positive- and negative-tone poly(methyl methacrylate) patterns
ASAKURA S.
(Graduate School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN)
,
HOZUMI A.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 2266-98, Anagahora, Shimo-shidami, Moriyama-ku ...)
,
YAMAGUCHI T.
(Graduate School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN)
,
FUWA A.
(Graduate School of Sci. and Engineering, Waseda Univ., 3-4-1, Okubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 500 号： 1-2 ページ： 237-240 発行年： 2006年04月03日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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