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文献
J-GLOBAL ID：200902216490437368
整理番号：03A0506394
Coulombビームぼけを考慮した最適電子ビーム投影式リソグラフィ用マスクバイアスの評価
Estimation of Optimum Electron-Beam Projection Lithography Mask Biases Taking Coulomb Beam Blur into Consideration
KOBINATA H
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
YAMADA Y
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
TAMURA T
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
FUJII K
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
NARIHIRO M
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
OCHIAI Y
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42 号： 6B ページ： 3816-3821 発行年： 2003年06月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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