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文献
J-GLOBAL ID：200902216844347116
整理番号：07A0302726
パルス陰極アークによるエピタキシャルTi2AlC薄膜の蒸着
Deposition of epitaxial Ti2AlC thin films by pulsed cathodic arc
ROSEN J.
(School of Physics, The Univ. of Sydney, New South Wales 2006, AUS)
,
RYVES L.
(School of Physics, The Univ. of Sydney, New South Wales 2006, AUS)
,
PERSSON P. O. A.
(School of Physics, The Univ. of Sydney, New South Wales 2006, AUS)
,
BILEK M. M. M.
(School of Physics, The Univ. of Sydney, New South Wales 2006, AUS)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 101 号： 5 ページ： 056101-056101-2 発行年： 2007年03月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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