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文献
J-GLOBAL ID：200902217025302959
整理番号：03A0387246
低温で伸張したアルミニウム及び銅薄膜における空孔クラスタ形成のクライオ-トランスファーTEMを用いた研究
Cryo-transfer TEM study of vacancy cluster formation in thin films of aluminum and copper elongated at low temperature.
MUKOUDA I
(Hiroshima Univ., Hiroshima, JPN)
,
SHIMOMURA Y
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
,
KIRITANI M
(Hiroshima Inst. Technol., Hiroshima, JPN)
資料名：
Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing
(Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing)
巻： A350 号： 1/2 ページ： 37-43 発行年： 2003年06月15日
JST資料番号： D0589B ISSN： 0921-5093 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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