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文献
J-GLOBAL ID：200902217369808215
整理番号：05A1021055
リソグラフィーによるエピタクシーNb膜の輸送臨界電流密度の増大
Enhancement of transport critical current density of epitaxial Nb film by lithography
YAMADA H.
(Electrical and Computer Engineering, Maizuru National Coll. of Technol., 234 Aza Shiroya, Maizuru, Kyoto 625-8511, JPN)
,
HARADA N.
(Dep. of Electrical and Electronics Engineering, Fac. of Engineering, Yamaguchi Univ., 2-16-1 Tokiwadai, Ube 755-8611 ...)
,
KANAYAMA K.
(Electrical and Computer Engineering, Maizuru National Coll. of Technol., 234 Aza Shiroya, Maizuru, Kyoto 625-8511, JPN)
,
NAKAGAWA S.
(Electrical and Computer Engineering, Maizuru National Coll. of Technol., 234 Aza Shiroya, Maizuru, Kyoto 625-8511, JPN)
,
YAMASAKI H.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Tsukuba Center 2, 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
HAMAJIMA T.
(Tohoku Univ., 1-1 Katahira 2-chome, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN)
資料名：
Physica C. Superconductivity and Its Applications
(Physica C. Superconductivity and Its Applications)
巻： 433 号： 1-2 ページ： 65-69 発行年： 2005年12月01日
JST資料番号： T0580A ISSN： 0921-4534 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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