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文献
J-GLOBAL ID:200902217613305948   整理番号:07A1229187

シリコン上の引張り歪ゲルマニウムCMOS集積化

Tensile-Strained Germanium CMOS Integration on Silicon
著者 (7件):
ZANG H.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
ZANG H.
(National Univ. Singapore, Singapore)
LOH W.Y.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
YE J.D.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
LO G.Q.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
CHO Byung Jin
(National Univ. Singapore, Singapore)
CHO Byung Jin
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Daejeon, KOR)

資料名:
IEEE Electron Device Letters  (IEEE Electron Device Letters)

巻: 28  号: 12  ページ: 1117-1119  発行年: 2007年12月 
JST資料番号: B0344B  ISSN: 0741-3106  CODEN: EDLEDZ  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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