文献
J-GLOBAL ID:200902217613305948
整理番号:07A1229187
シリコン上の引張り歪ゲルマニウムCMOS集積化
Tensile-Strained Germanium CMOS Integration on Silicon
著者 (7件):
ZANG H.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
,
ZANG H.
(National Univ. Singapore, Singapore)
,
LOH W.Y.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
,
YE J.D.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
,
LO G.Q.
(Inst. Microelectronics, Singapore)
,
CHO Byung Jin
(National Univ. Singapore, Singapore)
,
CHO Byung Jin
(Korea Advanced Inst. Sci. and Technol., Daejeon, KOR)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
28
号:
12
ページ:
1117-1119
発行年:
2007年12月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)