文献
J-GLOBAL ID:200902217646749922
整理番号:06A0050616
レジスト加工における原子間力顕微鏡を用いたナノサイズのキャラクタリゼーション
Nanoscale Characterization in Resist Processing by using Atomic Force Microscope
著者 (1件):
KAWAI Akira
(Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
18
号:
6
ページ:
729-736
発行年:
2005年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)