文献
J-GLOBAL ID:200902218277127439
整理番号:04A0098266
集束イオンビーム化学蒸着用の三次元パターン発生系の開発
Development of three-dimensional pattern-generating system for focused-ion-beam chemical-vapor deposition
著者 (9件):
HOSHINO T
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
WATANABE K
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
KOMETANI R
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
MORITA T
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
,
KAITO T
(Seiko Instruments Inc., Shizuoka, JPN)
,
FUJITA J
(NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN)
,
ISHIDA M
(NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN)
,
OCHIAI Y
(NEC Fundamental Res. Lab., Tsukuba, JPN)
,
MATSUI S
(Himeji Inst. Technol., Hyogo, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
21
号:
6
ページ:
2732-2736
発行年:
2003年11月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)