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文献
J-GLOBAL ID：200902218392489298
整理番号：04A0085714
ラビング処理した基板上に真空蒸着した銅フタロシアニン薄膜の成長過程
Growth Process of Vacuum Deposited Copper Phthalocyanine Thin Films on Rubbing-Treated Substrates
OFUJI M
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
INABA K
(Rigaku Corp., Tokyo, JPN)
,
OMOTE K
(Rigaku Corp., Tokyo, JPN)
,
HOSHI H
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
TAKANISHI Y
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
ISHIKAWA K
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
,
TAKEZOE H
(Tokyo Inst. of Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 42 号： 12 ページ： 7520-7524 発行年： 2003年12月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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