文献
J-GLOBAL ID:200902218620026252
整理番号:06A0164119
プラズマ浸漬イオン注入用の小滴がない高密度の金属イオン源
Droplet-free high-density metal ion source for plasma immersion ion implantation
著者 (3件):
NAKAMURA Keiji
(Chubu Univ., Aichi, JPN)
,
YOSHINAGA Hiroaki
(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)
,
YUKIMURA Ken
(Doshisha Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms
(Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻:
242
号:
1-2
ページ:
315-317
発行年:
2006年01月
JST資料番号:
H0899A
ISSN:
0168-583X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)