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文献
J-GLOBAL ID：200902218907867797
整理番号：06A0935064
新規な高分子アニオン光酸発生剤(PAG)と193nmリソグラフィー用の相当高分子
Novel polymeric anionic photoacid generators (PAGs) and corresponding polymers for 193 nm lithography
WANG Mingxing
(Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
,
JARNAGIN Nathan D
(Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
,
LEE Cheng-Tsung
(Georgia Inst. Technol., GA, USA)
,
HENDERSON Clifford L
(Georgia Inst. Technol., GA, USA)
,
YUEH Wang
(Intel Corp., OR, USA)
,
ROBERTS Jeanette M
(Intel Corp., OR, USA)
,
GONSALVES Kenneth E
(Univ. North Carolina, North Carolina, USA)
資料名：
Journal of Materials Chemistry
(Journal of Materials Chemistry)
巻： 16 号： 37 ページ： 3701-3707 発行年： 2006年10月07日
JST資料番号： W0204A ISSN： 0959-9428 CODEN： JMACEP 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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