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文献
J-GLOBAL ID：200902218995185528
整理番号：03A0523210
光リソグラフィー用の狭帯域F2レーザのスペクトル動特性
Spectral dynamics of narrow-band F2 laser for optical lithography
TANAKA H
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
TAKAHASHI A
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
OKADA T
(Kyushu Univ., Fukuoka, JPN)
,
ARIGA T
(Komatsu Ltd.)
,
NOHDOMI R
(Komatsu Ltd.)
,
HOTTA K
(Ushio Inc.)
,
MIZOGUCHI H
(Gigaphoton Inc.)
資料名：
Applied Physics. B. Lasers and Optics
(Applied Physics. B. Lasers and Optics)
巻： 76 号： 7 ページ： 735-740 発行年： 2003年07月
JST資料番号： E0501B ISSN： 0946-2171 CODEN： APBOEM 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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