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文献
J-GLOBAL ID:200902219852246905   整理番号:07A1199908

CuPc薄膜FETへのV2O5薄膜の積層による効果

Effects of V2O5 thin film insertion to CuPc thin film FETs
著者 (12件):
高橋俊明
(新潟大 大学院)
北村翔平
(新潟大 大学院)
皆川正寛
(新潟大 大学院)
大平泰生
(新潟大 大学院)
大平泰生
(新潟大 超域研究機構)
馬場暁
(新潟大 超域研究機構)
新保一成
(新潟大 大学院)
新保一成
(新潟大 超域研究機構)
加藤景三
(新潟大 大学院)
加藤景三
(新潟大 超域研究機構)
金子双男
(新潟大 大学院)
金子双男
(新潟大 超域研究機構)

資料名:
電気学会誘電・絶縁材料研究会資料  (電気学会研究会資料)

巻: DEI-07  号: 83-94  ページ: 7-10  発行年: 2007年11月09日 
JST資料番号: Z0908B  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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