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文献
J-GLOBAL ID：200902219852246905
整理番号：07A1199908
CuPc薄膜FETへのV2O5薄膜の積層による効果
Effects of V2O5 thin film insertion to CuPc thin film FETs
高橋俊明
(新潟大 大学院)
,
北村翔平
(新潟大 大学院)
,
皆川正寛
(新潟大 大学院)
,
大平泰生
(新潟大 大学院)
,
大平泰生
(新潟大 超域研究機構)
,
馬場暁
(新潟大 超域研究機構)
,
新保一成
(新潟大 大学院)
,
新保一成
(新潟大 超域研究機構)
,
加藤景三
(新潟大 大学院)
,
加藤景三
(新潟大 超域研究機構)
,
金子双男
(新潟大 大学院)
,
金子双男
(新潟大 超域研究機構)
資料名：
電気学会誘電・絶縁材料研究会資料
(電気学会研究会資料)
巻： DEI-07 号： 83-94 ページ： 7-10 発行年： 2007年11月09日
JST資料番号： Z0908B 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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